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伯东企业(上海)有限公司  
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上海伯东是德国 Pfeiffer 真空设备, 美国 KRI 考夫曼离子源, 美国 Ambrell 感应加热设备代理商
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美国 KRI 霍尔离子源 eH3000
单价 1.00 / 台对比
销量 暂无
浏览 61
发货 上海预售,付款后60天内
库存 1000台起订1台
品牌 KRI
气体流量 Array
散射角度 >45
电流 20A,10A,15A
过期 长期有效
更新 2023-12-06 23:51
 
详细信息

上海伯东代理美国考夫曼博士设立的考夫曼公司 KRI 霍尔离子源 eH 3000 最适合大型真空系统与友厂大功率离子源对比, eH 3000 是目前市场上最高效提供最高离子束流的无栅网离子源.

尺寸直径= 9.7“ = 6“

放电电压 / 电流: 50-300V / 20A

操作气体: Ar, Xe, Kr, O2, N2, 有机前体

伯东 KRI 霍尔离子源 eH 3000 特性:

1.水冷 - 加速冷却

2.可拆卸阳极组件 - 易于维护维护时,最大限度地减少停机时间即插即用备用阳极

3.宽波束高放电电流 - 高电流密度均匀的蚀刻率刻蚀效率高高离子辅助镀膜 IAD 效率

4.多用途 - 适用于 Load lock / 超高真空系统安装方便

 

5.高效的等离子转换和稳定的功率控制

KRI 霍尔离子源 Gridless eH 3000 技术参数:

离子源型号

 

霍尔离子源

eH3000
eH3000LO
eH3000MO

Cathode/Neutralizer

HC

电压

50-250V
50-300V
50-250V

电流

20A
10A
15A

散射角度

>45

可充气体 Ar, O2, N2, H2, organic precursors, others

气体流量

5-100sccm

高度

6.0“

直径

9.7“

水冷

可选

 

F = Filament; HC = Hollow Cathode; xO2 = Optimized for O2 current
 

伯东 KRI 霍尔离子源 eH 3000 应用领域:

1. 溅镀和蒸发镀膜 PC

2. 辅助镀膜 ( 光学镀膜 ) IBAD

3. 表面改性激活 SM

4. 直接沉积 DD
 

KRI 霍尔离子源 Gridless eH 相关应用案例

1.伯东 KRI 霍尔离子源 EH400 HC用于离子刻蚀 IBE

2. KRI 霍尔离子源 EH 3000 HC用于辅助天文望远镜镜片镀膜

3. 伯东 KRI 霍尔离子源 EH 4200辅助镀膜 IBAD用于 PC 预清洁

4. KRI 考夫曼霍尔离子源辅助光学镀膜

5. 伯东 KRI 霍尔离子源 EH 5500辅助手机壳颜色镀膜

6. KRI 霍尔离子源 EH 3000HC成功应用于天文望远镜镜片离子辅助镀膜工艺IBAD

7. 伯东 KRI霍尔离子源在样品清洗前处理中的应用

伯东是德国 Pfeiffer 真空泵,  检漏仪,  质谱仪,  真空计,  美国 KRI 考夫曼离子源,  美国HVA 真空阀门,  美国 inTEST 高低温冲击测试机,  美国 Ambrell 感应加热设备和日本 NS 离子蚀刻机等进口知名品牌的指定代理商.

 

若您需要进一步的了解详细信息或讨论,  请参考以下联络方式:

上海伯东罗先生                               台湾伯东王女士
T: +86-21-5046-1322                   T: +886-3-567-9508 ext 161
F: +86-21-5046-1490                        F: +886-3-567-0049
M: +86 152-0195-1076                     M: +886-939-653-958
ec@hakuto-vacuum.cn                      ec@hakuto.com.tw
www.hakuto-china.cn                    www.hakuto-vacuum.com.tw

 

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