伯东企业（上海）有限公司  

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尺寸: 直径= 5.7“ 高= 5.5”

放电电压 / 电流: 50-300V / 10A 或 15A

操作气体: Ar, Xe, Kr, O2, N2, 有机前体

伯东 KRI 霍尔离子源 eH 2000 特性：

1.水冷 - 与 KRI 霍尔离子源 eh 1000 对比, 提供更高的离子输出电流

2.可拆卸阳极组件 - 易于维护; 维护时, 最大限度地减少停机时间; 即插即用备用阳极

3.宽波束高放电电流 - 高电流密度; 均匀的蚀刻率; 刻蚀效率高; 高离子辅助镀膜 IAD 效率

4.多用途 - 适用于 Load lock / 超高真空系统; 安装方便

5.高效的等离子转换和稳定的功率控制

伯东 KRI 霍尔离子源 Gridless eH 系列在售型号及技术参数:

伯东 KRI 霍尔离子源 eH2000 应用领域：

1. 离子辅助镀膜 IAD

2. 预清洗 Load lock preclean

3. 预清洗 In-situ preclean

4. Direct Deposition

5. Surface Modification

6. Low-energy etching

7. III-V Semiconductors

8. Polymer Substrates
 

KRI 霍尔离子源 Gridless eH 相关应用案例

1.伯东 KRI 霍尔离子源 EH400 HC用于离子刻蚀 IBE

2. KRI 霍尔离子源 EH 3000 HC用于辅助天文望远镜镜片镀膜

3. 伯东 KRI 霍尔离子源 EH 4200辅助镀膜 IBAD用于 PC 预清洁

4. KRI 考夫曼霍尔离子源辅助光学镀膜

5. 伯东 KRI 霍尔离子源 EH 5500辅助手机壳颜色镀膜

6. KRI 霍尔离子源 EH 3000HC成功应用于天文望远镜镜片离子辅助镀膜工艺IBAD

7. 伯东 KRI霍尔离子源在样品清洗前处理中的应用

伯东是德国 Pfeiffer 真空泵,  检漏仪,  质谱仪,  真空计,  美国 KRI 考夫曼离子源,  美国HVA 真空阀门,  美国 inTEST 高低温冲击测试机,  美国 Ambrell 感应加热设备和日本 NS 离子蚀刻机等进口知名品牌的指定代理商.

若您需要进一步的了解详细信息或讨论,  请参考以下联络方式:

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