
随着微电子技术的发展,集成电路复杂度不断增加,这就要求半导体封装具有更好的电性能、更高的可靠性。这些年来,为缩小电子产品的尺寸、降低生产成本,实现高精度的点胶控制性能已经成为工业进一步发展的需要,这就对点胶过程的高性能的控制要求变得越来越苛刻。
高精度点胶控制的最终目标是达到接近测量精度的最小误差,同时还要具有很好的稳定性。只有这样,才能使点胶过程更精确,点胶质量更好。
由此可见,未来完成精确的定量点胶,而且会有进一步扩大的趋势,因此全自动点胶机技术及点胶装置的研究也必将会持续下去。随着21世纪纳米电子时代的到来,电磁屏蔽封装技术必将面临更加严峻的挑战,也孕育着更大的发展,这一环境下,FIP点胶的发展也势必会越来越好!

