美国 KRI 射频离子源 RFICP 220

上海伯东代理美国考夫曼博士设立的考夫曼公司 KRI 射频离子源 RFICP 220, 大面积高能量栅网离子源.

离子束流: >800 mA; 离子动能: 100-1200 V; 中和器: LFN 2000; 流量(Typical flow): 10-40 sccm; 压力: < 0.5m Torr

离子束可聚焦, 平行, 散射.

采用射频技术产生离子, 无需电离灯丝, 工艺时间更长.

通入气体可选 Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, others.
 

伯东 KRI 射频离子源 RFICP 220 技术参数:

PAdding: 2px; list-style: none; width: auto !important;"> 离子源型号	RFICP 220
Discharge	RFICP 射频
离子束流	>800 mA
离子动能	100-1200 V
栅极直径	20 cm Φ
离子束	PAN="1" style="font-family: "Noto Sans SC", sans-serif; box-sizing: border-box; position: relative; margin: 0px; padding: 2px; list-style: none; text-align: center; width: auto !important;"> 聚焦, 平行, 散射
流量	10-40 sccm
通气	Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他
典型压力	< 0.5m Torr
长度	30 cm
直径	41 cm
中和器	LFN 2000

* 可选: 灯丝中和器; 可变长度的增量
 

伯东 KRI 射频离子源 RFICP 220 应用领域：

1. 预清洗

2. 表面改性

3. 辅助镀膜(光学镀膜)IBAD,

4. 溅镀和蒸发镀膜 PC

5. 离子溅射沉积和多层结构 IBSD

6. 离子蚀刻 IBE
 

KRI 射频离子源相关应用案例:

1. 伯东 KRI 射频离子源 RFICP 应用于离子刻蚀 IBE

2. 伯东 KRI 射频离子源 RFICP 325 辅助 LED-DBR 镀膜

3. 伯东 KRI 离子源成功应用于离子溅射镀膜 (IBSD)