上海伯东代理美国考夫曼博士
设立的考夫曼公司 KRI 考夫曼离子源
KDC 160. 属于栅网离子源, 离子束可选聚焦/ 平行/ 散射. 适用于已知的所有离子源应用.
离子束流: >650 mA; 离子动能: 100-1200 V; 中和器: 灯丝, 流量 (Typical flow): 2-30 sccm.
加热灯丝产生电子, 增强设计输出高质量, 稳定的电子流.
离子源采用模块化设计, 方便清洁/ 保养/ 维修/ 安装.
无需水冷, 降低安装要求并排除腔体漏水的几率, 双阴极设计.
伯东美国 KRI 考夫曼离子源 KDC 160 技术参数:
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离子源型号
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离子源 KDC 160
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Discharge
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DC 热离子
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离子束流
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>650 mA
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离子动能
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100-1200 V
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栅极直径
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16 cm Φ
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离子束
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聚焦, 平行, 散射
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流量
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2-30 sccm
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通气
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Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他
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典型压力
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< 0.5m Torr
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长度
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25.2 cm
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直径
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23.2 cm
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中和器
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灯丝
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* 可选: 可调角度的支架
伯东 KRI 考夫曼离子源 KDC 160 应用领域:
1. 溅镀和蒸发镀膜 PC
2. 辅助镀膜(光学镀膜)IBAD
3. 表面改性, 激活 SM
4. 离子溅射沉积和多层结构 IBSD
5. 离子蚀刻 IBE
KRI 考夫曼离子源 Gridded KDC 系列应用案例:
1. 伯东 KRI 离子源成功应用于离子溅射镀膜 (IBSD)
2. 伯东 KRI Gridded 考夫曼离子源用于离子束抛光工艺
伯东是德国 Pfeiffer 真空泵, 检漏仪, 质谱仪, 真空计, 美国 KRI 考夫曼离子源, 美国HVA 真空阀门, 美国 inTEST 高低温冲击测试机, 美国 Ambrell 感应加热设备和日本 NS 离子蚀刻机等进口知名品牌的指定代理商.
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