Hakuto 离子蚀刻机 20IBE-J

单价	￥1.00 / 台对比
销量	暂无
浏览	54
发货	上海预售，付款后60天内
库存	1000台起订1台
品牌	Hakuto
均匀性	±5%
硅片刻蚀率	20 nm/min
离子源	Φ20cm 考夫曼离子源
过期	长期有效
更新	2023-12-06 23:51

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伯东企业（上海）有限公司

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上海
上次登录 2021-05-21 •
叶南晶 (女士)

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详细说明

上海伯东日本原装进口适合大规模量产使用的 Hakuto 离子蚀刻机 20IBE-J, 无论使用什么材料都可以用来加工.

Hakuto 离子蚀刻机 20IBE-J 配置使用美国 KRI Φ20cm 考夫曼离子源, 蚀刻均匀性: ±5%, 刻蚀速率: 20 nm/min, 样品台: 直接冷却(水冷), 0~90度旋转, 因此射频角度可以任意调整, 蚀刻可以根据需要做垂直, 斜面等加工形状.

Hakuto 离子蚀刻机主要优点:

1. 干式制程的微细加工装置, 使得在薄膜磁头, 半导体元件, MR sensor 等领域的开发研究及量产得以广泛应用.

2. 物理蚀刻的特性, 无论使用什么材料都可以用来加工, 所以各种领域都可以被广泛应用.

3. 配置使用美国考夫曼离子源

4. 射频角度可以任意调整, 蚀刻可以根据需要做垂直, 斜面等等加工形状.

5. 基板直接加装在直接冷却装置上, 所以可以在低温环境下蚀刻.

6. 配置公转自转传输机构, 使得被蚀刻物可以得到比较均匀平滑的表面.

7. 机台设计使用自动化的操作流程, 所以可以有非常友好的使用生产过程.

Hakuto 离子蚀刻机 20IBE-J技术参数

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Φ4 inch X 12片

基片尺寸

Φ4 inch X 12片
Φ5 inch X 10片
Φ6 inch X 8片

样品台

直接冷却,水冷

离子源

Φ20cm 考夫曼离子源

Hakuto 离子蚀刻机 20IBE-J 通氩气 Ar 不同材料的蚀刻速率:
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Hakuto 离子蚀刻机 20IBE-J 应用案例：

1. Hakuto 离子蚀刻机 20IBE 去除印刷电路板污染物

2. Hakuto 离子蚀刻机 20IBE-J 应用于硬盘 GMR 磁头

伯东是德国 Pfeiffer 真空泵, 检漏仪, 质谱仪, 真空计, 美国 KRI 考夫曼离子源, 美国HVA 真空阀门, 美国 inTEST 高低温冲击测试机, 美国 Ambrell 感应加热设备和日本 NS 离子蚀刻机等进口知名品牌的指定代理商.

若您需要进一步的了解详细信息或讨论, 请参考以下联络方式:

上海伯东: 罗先生                               台湾伯东: 王女士
T: +86-21-5046-1322                 T: +886-3-567-9508 ext 161
F: +86-21-5046-1490                        F: +886-3-567-0049
M: +86 152-0195-1076                   M: +886-939-653-958
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