Hakuto 离子蚀刻机 20IBE-C

单价	￥1.00 / 台对比
销量	暂无
浏览	114
发货	上海预售，付款后60天内
库存	1000台起订1台
品牌	Hakuto
均匀性	±5%
硅片刻蚀率	20 nm/min
离子源	Φ20cm 考夫曼离子源
过期	长期有效
更新	2023-12-06 23:51

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伯东企业（上海）有限公司

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上海
上次登录 2021-05-21 •
叶南晶 (女士)

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详细说明

上海伯东日本原装进口适合中等规模量产使用的 Hakuto 离子刻蚀机 20IBE-C.

蚀刻均匀性: ±5%, 刻蚀速率: 20 nm/min, 样品台可选直接冷却 / 间接冷却, 0-90度旋转.

Hakuto 离子刻蚀机 20IBE-C 主要优点:

1. 干式制程的微细加工装置, 使得在薄膜磁头, 半导体元件, MR sensor 等领域的开发研究及量产得以广泛应用.

2. 物理蚀刻的特性, 无论使用什么材料都可以用来加工, 所以各种领域都可以被广泛应用.

3. 配置使用美国 KRI 考夫曼离子源

4. 射频角度可以任意调整, 蚀刻可以根据需要做垂直, 斜面等等加工形状.

5. 基板直接加装在直接冷却装置上, 所以可以在低温环境下蚀刻.

6. 配置公转自转传输机构, 使得被蚀刻物可以得到比较均匀平滑的表面.

7. 机台设计使用自动化的操作流程, 所以可以有非常友好的使用生产过程.

Hakuto 离子刻蚀机 20IBE-C 技术参数:

PAN="6" style="font-family: "Noto Sans SC", sans-serif; box-sizing: border-box; position: relative; margin: 0px; PAdding: 2px; list-style: none; width: auto !important;"> TPS://static.qichecailiao.com/202101/20/1102127113368.jpg" style="box-sizing: border-box; position: relative; border: 0px; display: block; margin: 0px; padding: 0px; outline: 0px; max-width: 100%; height: auto !important;" width="157" height="205" />φ4 inch X 6片	基板尺寸	< Ф3 inch X 8片 < Ф4 inch X 6片 < Ф8 inch X 1片	可选
样品台	样品台可选直接冷却 / 间接冷却0-90度旋转
离子源	20cm 考夫曼离子源
均匀性	±5% for 8”Ф
硅片刻蚀率	20 nm/min
温度	<100

Hakuto 离子刻蚀机 20IBE-C 组成:
20IBE-C

Hakuto 离子刻蚀机 20IBE-C 通氩气 Ar 不同材料的蚀刻速率:
NS(1) (1)

伯东是德国 Pfeiffer 真空泵, 检漏仪, 质谱仪, 真空计, 美国 KRI 考夫曼离子源, 美国HVA 真空阀门, 美国 inTEST 高低温冲击测试机, 美国 Ambrell 感应加热设备和日本 NS 离子蚀刻机等进口知名品牌的指定代理商.

若您需要进一步的了解详细信息或讨论, 请参考以下联络方式:

上海伯东: 罗先生                               台湾伯东: 王女士
T: +86-21-5046-1322                 T: +886-3-567-9508 ext 161
F: +86-21-5046-1490                        F: +886-3-567-0049
M: +86 152-0195-1076                   M: +886-939-653-958
ec@hakuto-vacuum.cn                      ec@hakuto.com.tw
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