离子束流: >600 mA; 离子动能: 100-1200 V; 中和器: LFN 2000.
采用射频技术产生离子, 无需电离灯丝, 工艺时间更长, 更适合时间长的工艺要求. 提供高密度离子束, 满足高工艺需求.
离子源采用模块化设计, 方便清洁/ 保养/ 维修/ 安装.
非常适用于离子束溅射沉积, 离子辅助沉积和离子束刻蚀工艺.
伯东 KRI 射频离子源 RFICP 140 技术参数:
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型号 |
RFICP 140 |
|
Discharge |
RFICP 射频 |
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离子束流 |
>600 mA |
|
离子动能 |
100-1200 V |
|
栅极直径 |
14 cm Φ |
|
离子束 |
PAN="1" style="font-family: "Noto Sans SC", sans-serif; box-sizing: border-box; position: relative; margin: 0px; padding: 2px; list-style: none; text-align: center; width: auto !important;">
聚焦, 平行, 散射 |
|
流量 |
5-30 sccm |
|
通气 |
Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他 |
|
典型压力 |
< 0.5m Torr |
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长度 |
24.6 cm |
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直径 |
24.6 cm |
|
中和器 |
LFN 2000 |
伯东KRI 考夫曼离子源 RFICP 140 应用领域：
1.预清洗
2.表面改性
3.辅助镀膜(光学镀膜)IBAD,
4.溅镀和蒸发镀膜 PC
5.离子溅射沉积和多层结构 IBSD
6.离子蚀刻 IBE
KRI 射频离子源相关应用案例:
1. 伯东 KRI 射频离子源 RFICP 应用于离子刻蚀 IBE
2. 伯东 KRI 射频离子源 RFICP 325 辅助 LED-DBR 镀膜
3. 伯东 KRI 离子源成功应用于离子溅射镀膜 (IBSD)
伯东是德国 Pfeiffer 真空泵, 检漏仪, 质谱仪, 真空计, 美国 KRI 考夫曼离子源, 美国HVA 真空阀门, 美国 inTEST 高低温冲击测试机, 美国 Ambrell 感应加热设备和日本 NS 离子蚀刻机等进口知名品牌的指定代理商.
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