离子束流: >400 mA; 离子动能: 100-1200 V; 流量: 2-20 sccm; 中和器: 灯丝.
采用双阴极灯丝和自对准栅网.加热灯丝产生电子, 增强设计输出高质量, 稳定的电子流.
离子源采用模块化设计, 方便清洁/ 保养/ 维修/ 安装.
通入气体可选 Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, others.
伯东美国 KRI 考夫曼离子源 KDC 100 技术参数：
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离子源型号 |
离子源 KDC 100 |
|
Discharge |
DC 热离子 |
|
离子束流 |
>400 mA |
|
离子动能 |
100-1200 V |
|
栅极直径 |
12 cm Φ |
|
离子束 |
PAN="1" rowspan="1" style="font-family: "Noto Sans SC", sans-serif; box-sizing: border-box; position: relative; margin: 0px; padding: 2px; list-style: none; text-align: center; width: auto !important;">
聚焦, 平行, 散射 |
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流量 |
2-20 sccm |
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通气 |
Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他 |
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典型压力 |
< 0.5m Torr |
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长度 |
23.5 cm |
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直径 |
19.4 cm |
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中和器 |
灯丝 |
* 可选: 可调角度的支架
伯东KRI 考夫曼离子源 KDC 100 应用领域：
1.溅镀和蒸发镀膜 PC
2.辅助镀膜(光学镀膜)IBAD
3.表面改性, 激活 SM
4.离子溅射沉积和多层结构 IBSD
5.离子蚀刻 IBE
KRI 考夫曼离子源 Gridded KDC 系列应用案例:
1. 伯东 KRI 离子源成功应用于离子溅射镀膜 (IBSD)
2. 伯东 KRI Gridded 考夫曼离子源用于离子束抛光工艺
伯东是德国 Pfeiffer 真空泵, 检漏仪, 质谱仪, 真空计, 美国 KRI 考夫曼离子源, 美国HVA 真空阀门, 美国 inTEST 高低温冲击测试机, 美国 Ambrell 感应加热设备和日本 NS 离子蚀刻机等进口知名品牌的指定代理商.
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