美国 KRI 考夫曼离子源 KDC40

 
 
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品牌 KRI
离子束流 >100 mA
栅极直径 4 cm Φ
流量 2-10 sccm
过期 长期有效
更新 2023-12-06 23:51
 
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伯东企业(上海)有限公司

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  • 上海
  • 上次登录 2021-05-21
  • 叶南晶 (女士)  
详细说明

上海伯东代理美国考夫曼博士设立的考夫曼公司 KRI 考夫曼离子源 (栅网离子源) KDC40. 离子束可选聚焦/ 平行/ 散射. 适用于已知的所有离子源应用.

离子束流: >100 mA; 离子动能: 100-1200 V; 中和器: 灯丝, 流量 (Typical flow): 2-10 sccm.

加热灯丝产生电子, 增强设计输出高质量, 稳定的电子流.

离子源采用模块化设计, 方便清洁/ 保养/ 维修/ 安装.

无需水冷, 降低安装要求并排除腔体漏水的几率, 双阴极设计.
 

伯东美国 KRI 考夫曼离子源 KDC 技术参数:

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 离子源型号

 离子源 KDC 40 

Discharge

DC 热离子

离子束流

>100 mA

离子动能

100-1200 V

栅极直径

4 cm Φ

离子束

PAN="1" rowspan="1" style="font-family: "Noto Sans SC", sans-serif; box-sizing: border-box; position: relative; margin: 0px; padding: 2px; list-style: none; text-align: center; width: auto !important;">

聚焦, 平行, 散射

流量

2-10 sccm

通气

Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他

典型压力

< 0.5m Torr

长度

17.1 cm

直径

9 cm

中和器

灯丝


伯东 KRI 考夫曼离子源 KDC 40 应用领域:

1. 溅镀和蒸发镀膜 PC

2. 辅助镀膜(光学镀膜)IBAD

3. 表面改性激活 SM

4. 离子溅射沉积和多层结构 IBSD

5. 离子蚀刻 IBE
 

KRI 考夫曼离子源 Gridded KDC 系列应用案例:

1. 伯东 KRI 离子源成功应用于离子溅射镀膜 (IBSD)

2. 伯东 KRI Gridded 考夫曼离子源用于离子束抛光工艺

伯东是德国 Pfeiffer 真空泵,  检漏仪,  质谱仪,  真空计,  美国 KRI 考夫曼离子源,  美国HVA 真空阀门,  美国 inTEST 高低温冲击测试机,  美国 Ambrell 感应加热设备和日本 NS 离子蚀刻机等进口知名品牌的指定代理商.

 

若您需要进一步的了解详细信息或讨论,  请参考以下联络方式:

上海伯东罗先生                               台湾伯东王女士
T: +86-21-5046-1322                   T: +886-3-567-9508 ext 161
F: +86-21-5046-1490                        F: +886-3-567-0049
M: +86 152-0195-1076                     M: +886-939-653-958
ec@hakuto-vacuum.cn                      ec@hakuto.com.tw
www.hakuto-china.cn                    www.hakuto-vacuum.com.tw

 

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