尺寸: 直径= 5.7“ 高= 5.5”
放电电压 / 电流: 50-300V / 10A 或 15A
操作气体: Ar, Xe, Kr, O2, N2, 有机前体
伯东 KRI 霍尔离子源 eH 2000 特性：
1.水冷 - 与 KRI 霍尔离子源 eh 1000 对比, 提供更高的离子输出电流
2.可拆卸阳极组件 - 易于维护; 维护时, 最大限度地减少停机时间; 即插即用备用阳极
3.宽波束高放电电流 - 高电流密度; 均匀的蚀刻率; 刻蚀效率高; 高离子辅助镀膜 IAD 效率
4.多用途 - 适用于 Load lock / 超高真空系统; 安装方便
5.高效的等离子转换和稳定的功率控制
伯东 KRI 霍尔离子源 Gridless eH 系列在售型号及技术参数:
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离子源型号
|
霍尔离子源 eH2000 |
|
Cathode/Neutralizer |
F or HC |
|
电压 |
50-300V |
|
电流 |
10A |
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散射角度 |
>45 |
| 可充其他 | PAN="1" rowspan="1" style="font-family: "Noto Sans SC", sans-serif; box-sizing: border-box; position: relative; margin: 0px; padding: 2px; list-style: none; text-align: center; width: auto !important;">Ar, O2, N2, H2, organic precursors, others |
|
气体流量 |
2-75sccm |
|
高度 |
4.0“ |
|
直径 |
5.7“ |
|
水冷 |
是 |
伯东 KRI 霍尔离子源 eH2000 应用领域：
1. 离子辅助镀膜 IAD
2. 预清洗 Load lock preclean
3. 预清洗 In-situ preclean
4. Direct Deposition
5. Surface Modification
6. Low-energy etching
7. III-V Semiconductors
8. Polymer Substrates
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伯东是德国 Pfeiffer 真空泵, 检漏仪, 质谱仪, 真空计, 美国 KRI 考夫曼离子源, 美国HVA 真空阀门, 美国 inTEST 高低温冲击测试机, 美国 Ambrell 感应加热设备和日本 NS 离子蚀刻机等进口知名品牌的指定代理商.
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