美国 KRI 霍尔离子源 eH1000

 
 
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品牌 KRI
离子源直径 4 cm
离子束发散角度 > 45° (hwhm)
阳极 标准或 Grooved
过期 长期有效
更新 2023-12-06 23:51
 
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伯东企业(上海)有限公司

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  • 上海
  • 上次登录 2021-05-21
  • 叶南晶 (女士)  
详细说明
上海伯东代理美国考夫曼博士设立的考夫曼公司 KRI 霍尔离子源 eH 400 低成本设计提供高离子电流, 霍尔离子源 eH 400 尺寸和离子能量特别适合中小型的真空系统, 可以控制较低的离子能量, 通常应用于离子辅助镀膜, 预清洗和低能量离子蚀刻.

尺寸直径= 3.7  = 3

放电电压 / 电流: 50-300eV / 5a

操作气体: Ar, Xe, Kr, O2, N2, 有机前体


伯东 KRI 霍尔离子源 eH 400 特性:

1.可拆卸阳极组件 - 易于维护维护时最大限度地减少停机时间即插即用备用阳极

2.宽波束高放电电流 - 均匀的蚀刻率刻蚀效率高高离子辅助镀膜 IAD 效率

3.多用途 - 适用于 Load lock / 超高真空系统

4.高效的等离子转换和稳定的功率控制

KRI 霍尔离子源 eH 400 技术参数:

型号

eH 400 / eH 400 LEHO

供电

DC magnetic confinement

电压

40-300 V VDC

离子源直径

~ 4 cm

阳极结构

模块化

电源控制

eHx-3005A

配置

-

阴极中和器

Filament, Sidewinder Filament or Hollow Cathode

离子束发散角度

> 45° (hwhm)

阳极

标准 Grooved

水冷

前板水冷

底座

移动或快接法兰

高度

3.0'

直径

3.7'

加工材料

金属
电介质
半导体

工艺气体

Ar, Xe, Kr, O2, N2, Organic Precursors

安装距离

6-30”

自动控制

控制4种气体

 

可选可调角度的支架; Sidewinder
 

KRI 霍尔离子源 eH 400 应用领域:

1.离子辅助镀膜 IAD

2.预清洁 Load lock preclean

3.In-situ preclean

4.Low-energy etching

5.III-V Semiconductors

6.Polymer Substrates
 

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7. 伯东 KRI霍尔离子源在样品清洗前处理中的应用

伯东是德国 Pfeiffer 真空泵,  检漏仪,  质谱仪,  真空计,  美国 KRI 考夫曼离子源,  美国HVA 真空阀门,  美国 inTEST 高低温冲击测试机,  美国 Ambrell 感应加热设备和日本 NS 离子蚀刻机等进口知名品牌的指定代理商.

 

若您需要进一步的了解详细信息或讨论,  请参考以下联络方式:

上海伯东罗先生                               台湾伯东王女士
T: +86-21-5046-1322                   T: +886-3-567-9508 ext 161
F: +86-21-5046-1490                        F: +886-3-567-0049
M: +86 152-0195-1076                     M: +886-939-653-958
ec@hakuto-vacuum.cn                      ec@hakuto.com.tw
www.hakuto-china.cn                    www.hakuto-vacuum.com.tw

 

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