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GDMS辉光放电质谱仪
利用阴极溅射。辉光放电形成的正离子轰击样品，能量从几百到几千电子伏的正的氩离子被加速到样品表面。导致样品上层被腐蚀或雾化。在质谱仪经过质量分离后测量从溅射区域产生的分析离子，经RSF转化成浓度。
GDMS优点
能够探测到每种杂质的化学态的全部浓度，不需要通过化学方法。可以一次性测出全部的73种元素的含量，可以精度到小数点8位。检测成本低
GDMS缺点
H、C、O、N元素的探测极限较差
GDMS适用范围
石墨 碳 硅 碳化硅 氧化物 陶瓷 等
SIMS基本原理
样品由氧或者铯源的聚焦一次离子束溅射，形成的二次离子被加速使其脱离样品表面，由静电分析器进行能量分离和由电磁质量分析器基于质荷比进行质量分离。
